ION WAVE 10 批次等離子系統

與射頻等離子體相比，微波會產生更高密度的等離子體（離子/基團）和更低的基板感應偏壓。由於這一事實，預計微波等離子體中光刻膠的灰化率更高，等離子體損傷更低。IoN Wave 10 等離子系統專為研發和小規模生產應用而設計。PVA TePla 是一種經過驗證且值得信賴的全球資源，可提供高質量、可靠、經濟高效且易於操作的氣體等離子系統。它為各種應用提供了一些最先進和創新的解決方案。

典型應用

• 光刻膠灰化和除渣
• 在較低溫度下去除 SU-8
• 鈍化層蝕刻
• 設備解封
• 表面清潔
• 表面活化

功能包括：

• 小腳印桌面設計
• 即插即用自安裝
• 帶液晶觸摸屏和鍵盤的工業計算機。基於 Windows 的操作系統
• 圖形用戶界面 (GUI) 軟件符合 CFR Title 21 Part 11 和 Semi E95-1101
• 多級用戶訪問
• 軟件
  • 用於快速和多功能步驟控制的配方編輯器
  • 板載診斷功能和報警記錄
  • 通過以太網進行遠程過程監控
  • 基於網絡的在線模擬/培訓/支持