晶圓清洗蝕刻機-科毅科技股份有限公司

晶圓清洗蝕刻機

產品簡介

項目	參數
晶圓尺寸	6”-12”
刻蝕材料	Si、SiC、GaAs、GaN4等可定制
產能	＞38PCS（每次運行180s）
工藝指標	UPTIME>95%,MTTR< 4H , 顆粒增加值 <20ea@0.2um 8” Bare

諮詢熱線：400-600-8500

科毅科技為追求本公司之曝光機（光刻機）、塗布機、光罩、平行光源等光電設備之優良品質，不斷研發製造技術（微影制程/科技），並設有class 1000等級無塵室，使所造之光電設備有更好的測試環境，以提供國內外廠商更精密良好的光電儀器。

此外更不斷針對制程進行改善以提高效率與產能、降低生產成本，才能提供客戶更即時、更具競爭力的產品與服務，進而達到與客戶共創利潤的雙贏局面。

聯絡方式

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