紫外线灯泡（汞灯）建议使用小时数如下：
正常使用状态：
350W、500W、1000W、2000W，为600小时
5000W，为800小时
提醒您，曝光系统有数种光学元件，大部分元件皆有涂布独特的光学镀膜，此光学镀膜会因为时间、温度、湿度及酸碱PH值产生损耗，建议将固定检查点检其功能性及外观有无异常，并加以记录，有任何问题请直接请教专业的M&R咨询。

　　PLC可程式控制器（Programable Logic Controller）简称PLC，是一种具有微处理机的数位电子设备，可以将控制指令随时加载记忆体内储存与执行。
　　在自动化控制领域，PLC是一种重要的控制设备。
　　目前，世界上有200多厂家生产300多品种PLC产品，应用在汽车（23%）、粮食加工（16.4%）、化学/制药（14.6%）、金属/矿山（11.5%）、纸浆/造纸（11.3%）等行业。
　　其实在生产线上很多控制是应用PLC来处理例如机械手臂、输送带，生活中有的例子如：电梯…等等。
　　人机：在工业界亦将传统按钮面板进入到亲切的触控人机界面（Human-Machine Interface，缩写HMI），在工业上的用户界面简单的区分为Input（输入）与Output（输出）两种，Input指的是由人来进行机械或设备的操作，如把手、开关、门、指令（命令）的下达或保养维护等，而Output指的是由机械或设备发出来的通知，如故障、警告、操作说明提示等，好的人机界面会帮助使用者更简单、更正确、更迅速的操作机械，也能使机械发挥最大的性能并延长使用寿命，而目前市面上所指的人机界面则多半狭义的指在拥有软件人性化的操作界面的硬件（如触控屏幕）。

黄光设备的应用范围如下：
1、Displays（Touch Panel，LCD，OLED）显示器（触控面板，液晶显示，有机发光二极管显示器）
2、MEMS devices微机电
3、Optoelectronic devices（LEDs，laser-diodes，waveguide arrays，Ink Jet head，MMIC）光电元件（发光二极管，激光二极管，光波导元件，喷墨印表机，微波集成电路）
4、Detectors（CCD，near- and far-IR）感测器（电荷耦合元件，红外线感测器）

5、Passive Component被动元件

6、PV（3,5族Photo Voltaic）3,5族太阳能电池

7、Semiconductor packaging（wafer bumping and wafer-level Packaging）半导体制程

黄光设备制程的基本步骤如下：
1、Photoresist Coating
2、晶圆Spin Wash
3、脱水烘烤
4、底漆层及Photoresist Coating
5、软烘烤
6、曝光
7、对准及曝光
8、Developing
9、Developing
10、图案检视
11、硬烘烤
12、Etching
13、化学Etching

　　何谓黄光无尘室大多数之感光胶（光阻、光刻胶）的光敏感范围皆在450nm以下，故原则上无尘室的光线波长只要在500nm以上就算是安全，不会造成提早感光及误曝的情况，则红光、黄光、绿光、蓝光皆可以被采用于无尘室的照明，但因其下列原因，故选择”黄光”作为该无尘室的主要照明。
　　红光无尘室，若长期待上8个小时，心情较会变得心浮气躁。
　　绿光无尘室，在绿光的投射下，见到无尘室内的同事，会变成”看到鬼”。
　　蓝光无尘室，因蓝光波长太靠近紫外光，导致较长波长（436nm）敏感之光阻，可能造成误曝光。
　　黄光无尘室，是物理及人性方面最能被为接受的。综合以上原因，故采用黄光无尘室。

　　定义：Photo Mask（Photo Mask）是一块画有特定图案（Pattern）的玻璃片或胶片，玻璃是可以透光的，另外有些地方含有不透光物质，使光无法透过去。
　　种类：Photo Mask依底材可分为石英（Quartz）和光学玻璃（Soda Lime）
　　透光率以石英为佳，热膨胀率也以石英较小胶片Photo Mask（Mylar Film）。
　　一般用在PCB或精度要求不高之制程Photo Mask依感光物质可分为乳胶（Emulsion）底片或在底材（玻璃或胶片）上涂上感光乳胶，易刮伤。成本便宜铬片在底材（玻璃）上需镀上铬金属，之后涂上光阻，不易刮伤、成本高。
　　尺寸：3”4”5”6”7”或大型底片可大到32”*28”，也可依要求制成特殊尺寸。
　　用途：Photo Mask是使用在半导体工厂的制造过程中，半导体或晶圆制造过程是由数百道至上千道的制程所构成，重复着[微影]、[Etching]、[薄膜]、[扩散]、[离子植入]的过程，Photo Mask就是使用在微影制程（Photolithography），晶圆在进入曝光机台（stepper或scanner）进行曝光前，需先由Photoresist Coating机（PR coater）涂上一层固定厚度的光阻（photo resistance，PR），再送到曝光机台进行曝光，把Photo Mask上的图案（Pattern）重现在晶圆上面，曝光后经过Developing定影步骤才算完成微影制程，，再经过Etching制程并且去掉光阻，就会得到所需要的图案（Pattern）作成。
　　Photo Mask的制作是使用激光绘图机，依不同精度、使用不同等级的绘图机，花费时间也依精度而有所不同，其制作的流程包括激光绘制。
　　Photo Mask涂上感光层，激光照射后会产生聚合或分解的效应，可使得所需的图形留在底材上，不需要的部份经过去光阻（或称剥膜）而产生出图形，Spin Wash后即完成Photo Mask的制作。

　　照度计、紫外辐射照度计属于光学测试仪器。
　　其特征是由两个单向截止光学滤光片和两个相同的光电接收器构成双光路探测器，电路部分采用双路放大，从而能够准确地测出所需测试波段的辐射量值，杂散光截止性很强。
　　照度计的测试原理照度是受照平面上接受的光通量的面密度。
　　照度计是用于测量被照面上的光照度的仪器，是光照度测量中用得最多的仪器之一。
　　照度计的结构原理：照度计由光度头（又称受光探头，包括接收器、V（λ）对滤光器、余弦修正器）和读数显示器两部分组成。照度计受照面的亮度与光源的入射角度有关。相同的道理，在用照度计做测量时，感应器﹝Sensor﹞与光源入射角度自然会对照度计的读值有影响。所以一个好的照度计是否有余弦补偿的功能实在不可忽略。使用和校准建议：同一个公司尽可能的使用同一厂家同一型号的仪器，便于测量值统一，便于公司内部记录和比较。用同一间公司不同型号照度计进行测量，测量结果可能也有较大差异。由于紫外辐照计制作探测器材料的特殊性，年变化率还是比较大的，再加上使用频繁，很容易产生量值漂移，如对量值产生怀疑最好及时送检。最后即使正常使用也需送原厂一年校正一次，以确保准确性。

何谓对位“对位”简单来说就是将Photo Mask上的图形精准的对齐在基材（晶圆）上，然后再进行曝光的动作。
所以对位系统可以说是曝光对准机中最重要的机件之一，它提供了Photo Mask及基材（晶圆）之间之精密共平面之Z轴及X、Y、θ 轴的相对位置调整。
本公司提供了利用分离卡之手动方式对位，或利用高精度CCD图像辨识的自动对位，分辨率可达1um。

紫外线灯泡（汞灯）衰减紫外线灯泡（汞灯）异常衰减检查内容：
1、检查紫外线灯泡（汞灯）功率、电压和电流，是否正确（标准值可参考汞灯灯盒）。
2、紫外线灯泡（汞灯）的位置是否正确，X、Y、Z轴需调至最佳位置。
3、反光碗是否有氧化。
4、Fly eye是否有雾化。
5、更换紫外线灯泡（汞灯），确认是否有瑕疵。
6、确认照度计是否有问题。